久保・山田研究室は、機能性材料の物理工学的・材料工学的研究を行っています。
作製プロセスと材料特性の関係を明らかにすることを目的としています。
研究内容を材料、作製法、測定法ごとに分類して紹介します。
超伝導体の研究
電気抵抗がゼロになる材料の研究です。
合金系超伝導薄膜と酸化物系高温超伝導体を対象としています。
透明導電膜の研究
太陽電池やディスプレーに使われる透明導電膜の研究を行っています。
液相エピタキシャル法による結晶成長
高温の液相を用いて単結晶薄膜を形成したり、新しい結晶材料を合成します。
スパッタリング法による薄膜成長
スパッタリングという手法を用いて、基板上に化合物の薄膜を形成します。
有機金属化学気相堆積法による薄膜成長
化学反応により10-2 Pa (1Torr) 程度の比較的圧力の高い真空で薄膜を形成します。
電子ビーム蒸着法による薄膜成長
電子ビームを使って10-5 Paほどの高真空で高融点物質の薄膜を作ります。
抵抗率測定
４端子法により冷凍機を使って 2Kから300Kまでの抵抗率を測定し、超伝導や半導体の性質を明らかにします。
Ｘ線回折
粉末Ｘ線回折、Φスキャン測定などを通して、結晶の完全性や配向性を調べます。
磁化率測定
超伝導量子干渉計（SQUID）を用いて試料の磁化を測定し、超伝導特性を明らかにします。
電子顕微鏡観察
走査型電子顕微鏡（SEM）を用いて、結晶や薄膜表面を観察します。
エネルギー分散スペクトロスコピー（EDS）を使って組成分析を行います。